钢研纳克：高通量场发射扫描电镜可以作为半导体晶圆刻线的检测仪器
原文发布时间: 2020-01-17 17:20
来源: 深交所互动易
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投资者问：尊敬的董秘老师您好，根据聚束科技官方网站公布的高通量扫描电镜系统公布的产品举例：以半导体晶圆分析为例，以4nm像素大小扫描300umX300um区域内的晶圆刻线，传统电镜需要至少38分钟完成相同工作，而高通 量仅需0.9分钟即可完成自动图像采集，并生成Google Map式全景样品地图。 请董秘老师再次与聚束科技专家确认一下，高通量场发射扫描电镜是否可以作为光刻机的重要光学零件？
钢研纳克(300797)：拟回复如下： 经咨询，公司高通量场发射扫描电镜可以作为半导体晶圆刻线的检测仪器，但是无法确认是否可以作为光刻机的重要零件。
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