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中微公司尹志尧:等离子体刻蚀设备助力128层及以上芯片量产

原文发布时间: 2024-03-20 14:54    来源: 水母GPT    影响力评估指数:10   消息收藏夹   收藏 已收藏
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中微公司(688012)董事长尹志尧表示,该公司研发的刻蚀设备已成功应用于知名客户的生产线,用于5纳米及以下器件的关键加工步骤。公司还在持续改进设备和工艺,以满足先进集成电路厂商的需求。此外,公司的等离子体刻蚀设备在3DNAND芯片制造方面也取得了成功,并已应用于128层及以上的量产。同时,公司还在开发更先进的刻蚀设备,以满足不同客户的需求。
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