三星电子展出业界最小3D堆叠晶体管
2026-06-17 15:38   
来源: 云财经   
影响力评估指数:23.35  
云财经讯,近日,三星电子实现了业界最小的3D堆叠晶体管。在最近于美国举行的VLSI 2026上,该公司展示了其在实现栅极间距为42nm的3D堆叠场效应晶体管(3D堆叠FET)方面取得的成果,该技术将晶体管垂直堆叠而非放置在平面上,预计将应用于系统半导体领域。
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