国内首个半导体薄膜设备生产基地在沈投入使用
2017-05-24 07:12
来源: 互联网
影响力评估指数：97.08
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本报讯(沈阳日报、沈阳网记者黄超)日前，记者在沈阳拓荆科技有限公司获悉，在国家大基金、国家科技部重大专项以及省市区三级政府的大力支持下，沈阳拓荆科技有限公司投资兴建的新厂区正式投入使用。该基地是目前国内首个半导体薄膜设备产业化基地，仅用一年零三个月就完成了项目建设。新厂区占地80亩，总建筑面积40000平方米，拥有十级、百级、千级洁净厂房共计2800平方米。拓荆公司相关负责人介绍说，该基地一期可实现年产100台套产品能力，二期投产后，公司产能将达到年产350台套，同时，可支撑年产值达50亿元的生产规模，该基地的成功投入使用，将对沈阳制造迈向中高端起到拉动作用。
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