江化微申请强化钼铌合金蚀刻专利，提升铜/钼铌金属叠层基板的蚀刻效率和蚀刻精度一致性

2024年3月23日，江阴江化微(603078)电子材料股份有限公司申请了一项名为“一种强化钼铌合金蚀刻的铜蚀刻液及蚀刻方法”，公开号CN117737733A，申请日期为2023年12月。该发明公开了一种强化钼铌合金蚀刻的铜蚀刻液，主要成分包括过氧化氢、有机酸、有机碱、金属保护剂和去离子水。该液体的pH值为2.1～3.6，有机酸为至少两种的组合。该液体能加快同一基板中不同区域的铜/钼铌层蚀刻速率，使蚀刻时长趋于一致，提升蚀刻效率和精度一致性。同时，发明还公开了基于该液体的蚀刻方法。